鍍鋁膜的厚度均勻性測(cè)量

由于真空鍍鋁薄膜上的鍍鋁層非常薄，因此不能用常規(guī)的測(cè)厚儀器檢測(cè)其厚度，目前測(cè)量鍍鋁膜的厚度均勻性的專用儀器是光密度儀。光密度儀原理是光密度法通過(guò)對(duì)薄膜透光率光學(xué)性能進(jìn)行檢測(cè)。
鍍鋁膜的厚度均勻性測(cè)量方法：
1、高倍電子顯微鏡直接測(cè)量，精確度為10E-10米，也就是0.1納米（1米＝1000mm，1mm＝1000微米，1微米＝1000納米，1納米＝10埃米）。鍍鋁層的厚度一般為30埃米至800埃米之間。這個(gè)方法對(duì)鍍鋁層厚度方向上的斷面取樣手法要求極高，其精確度影響較大，但是所得數(shù)據(jù)是最為直接的物理測(cè)量。
2、方塊電阻法測(cè)量，我國(guó)有國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)：GB/T 15717-1995《真空金屬鍍層厚度測(cè)試方法電阻法》。此標(biāo)準(zhǔn)中有詳細(xì)的方法描述，你有興趣可以下載下來(lái)看看。這是一種模擬檢測(cè)手段，有一定誤差，尤其是對(duì)半透明鍍鋁膜的檢測(cè)，簡(jiǎn)直無(wú)法進(jìn)行。
3、用光密度計(jì)進(jìn)行檢測(cè)：目前這種儀器在物理學(xué)的原理方面是一樣的，但是奇怪的是連美國(guó)都有兩家公司生產(chǎn)的光密度計(jì)居然差別很大，一種是TOBIAS牌的，另一種是愛(ài)色麗（X-rite)生產(chǎn)的系列儀器。國(guó)內(nèi)的光密度計(jì)就是林上科技的LS117光密度計(jì)；它是用光學(xué)透視的方法來(lái)?yè)Q算鍍鋁層的厚度，也是一種模擬檢測(cè)方法。這種儀器可以適用于半透明鍍鋁膜，也能適用于不透明鍍鋁膜。

4、用光密度儀進(jìn)行檢測(cè)，儀器很多，但全球標(biāo)準(zhǔn)都不統(tǒng)一，也是一種模擬檢測(cè)方法，適用于半透明鍍鋁膜的檢測(cè)。鍍鋁膜使用的檢測(cè)儀還是選擇光密度儀最為合適。