光刻曝光與紫外線強度檢測

光刻曝光技術(shù)利用紫外線原理對工業(yè)生產(chǎn)中一些物質(zhì)的雜質(zhì)的定域擴散進行加工。對于現(xiàn)在的光刻曝光技術(shù)來說極紫外線（EUV）快要適用了，那么設(shè)想接下來新一代的光刻會采用什么技術(shù)呢？是會有更短的波長？怎樣監(jiān)控其中的紫外線強度確保不會影響生產(chǎn)呢?

光刻曝光需要利用紫外線強度檢測儀進行紫外線強度監(jiān)控。就目前發(fā)展前景來看。下一代的光刻技術(shù)很有可能為電子束曝光，極限分辨率能達到2、3nm。在光學光刻曝光系統(tǒng)中，曝光輻射的波長是光刻工藝的關(guān)鍵參數(shù)。波長直接影響紫外線的能量強度。也就是說需要達到良好的光刻工藝，必須要有紫外線強度檢測儀來對紫外線能量強度進行參照。

傳統(tǒng)光刻曝光系統(tǒng)使用紫外光，會有干涉和衍射現(xiàn)象影響分辨率。雖如此，但還有繼續(xù)發(fā)展下去的趨勢。其中要想減少被市場上其他競爭產(chǎn)品的淘汰，首先在生產(chǎn)中就要注意利用紫外線強度檢測儀使光刻曝光過程中保持良好的紫外照射強度，才能生產(chǎn)出有競爭力的產(chǎn)品。目前的光刻曝光技術(shù)有極深紫外光系統(tǒng)，但其系統(tǒng)復雜，最終也難以規(guī)避由于干涉衍射帶來的分辨率限制。因此必須利用紫外線強度檢測儀防止紫外光的強度過高對分辨率造成很大影響。

為什么光刻曝光技術(shù)會不斷發(fā)展和越來越受歡迎呢？主要是因為傳統(tǒng)系統(tǒng)中的缺陷不適應(yīng)現(xiàn)代市場的發(fā)展需求。非光學光刻曝光系統(tǒng)有以下幾種。X射線曝光系統(tǒng)：就商用X射線曝光設(shè)備來看，可以容忍的缺陷是圖形畸變，但更嚴重的限制是半影模糊。離子束曝光系統(tǒng)：存在隨機空間電荷問題，好處是不需要掩模。電子束曝光系統(tǒng)：存在電子的散射問題，好處是不需要掩模。X射線光刻的分辨率沒有那么高。X射線光刻和紫外光刻的原理不同。X射線不能被折射，也沒有好的反射材料，所以無法被聚焦。而且X射線的能量太高，會產(chǎn)生二次電子，這個限制了最小分辨率。所以就目前來說，光刻曝光技術(shù)的發(fā)展仍有不斷上升的區(qū)間，且這個過程離不開紫外線強度檢測儀的不斷檢測，確保紫外線能量的正常控制，光刻過程的正常進行和產(chǎn)品質(zhì)量的最終保證。

光刻曝光技術(shù)的良好發(fā)展需要精確度高的紫外線強度檢測儀與之相配合。林上的LS126C紫外線強度檢測儀檢測功能多樣，可以顯示多種數(shù)據(jù)，還可以顯示強度的變化趨勢，在功能應(yīng)用和數(shù)據(jù)精確上都達到了行業(yè)標準的前列。在發(fā)展過程中不斷與時俱進，更加貼合了顧客的要求。未來的光刻曝光技術(shù)發(fā)展會與紫外線強度檢測儀相輔相成，互相促進。