真空鍍膜機與高真空的關系

來源:林上  發(fā)布時間:2013/01/22 12:01:08  瀏覽:4613

蒸發(fā)真空鍍膜機工作時真空材料蒸發(fā)出來的原子或分子不要受空氣分子的阻擋而直接濺落到固體的表面,這樣,鍍膜層形成的速度高,膜層結合力強,成膜質量也好。

反之,如果真空度低,有大量的空氣分子存在,一方面,蒸發(fā)真空鍍膜機蒸發(fā)出來的原子或分子與空氣分子碰撞,阻礙了膜材分子的擴散,降低了膜層形成的速度,影響了膜的均勻性與結合力;另一方面,空氣的導熱使得膜材的溫度不能很快地升高,必然要加大加熱功率;更有甚者,空氣的存在可能使膜材的某些成分氧化,引起成分變性;在連接著抽氣機的情況下,若不能很快完成鍍膜,膜料將被抽走。

因此,真空鍍膜機需要在高真空條件下進行工作;當然,真空度也不需要絕對的高。事實上,只要分子的平均自由程大于膜材到基底的距離即可。如果需要確保真空鍍膜產品厚度的均勻性,可使用真空鍍膜光密度在線測試儀來連續(xù)監(jiān)控鍍膜品質。

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